День: 07/16/2026

Специализированный гранит для полупроводникового оборудования: всесторонний анализ термической стабильности и геометрической точности. В литографии полупроводников, контроле качества пластин, пробных станциях, установках для склеивания кристаллов и оптическом оборудовании AOI требуется долгосрочный стабильный эталон в нанометровом масштабе. Благодаря чрезвычайно низкому тепловому расширению, отсутствию временной ползучести и сверхвысокой точности плоскостности гранит стал единственным материалом для изготовления структурных оснований…

6 основных причин, по которым полупроводниковая промышленность в значительной степени зависит от прецизионных гранитных оснований. Передовые технологии производства полупроводников (7 нм/3 нм/EUV-литография, контроль подложек, пробные станции, оптическая метрология) требуют точности позиционирования на нанометровом уровне. Металлические материалы (сталь, чугун, алюминий) не способны выдерживать экстремальные условия эксплуатации. Гранит, обладающий уникальными природными комплексными физическими свойствами, стал незаменимым эталонным материалом для изготовления основ. Его основные преимущества…