В чём заключаются преимущества решений для оснований литографических установок для полупроводниковой промышленности?
Основные преимущества гранитных оснований для литографического оборудования для производства полупроводников I. Максимальная термическая стабильность, исключающая тепловой дрейф в наномасштабе (основное требование к литографии). Специальный гранит для полупроводниковой промышленности обладает чрезвычайно низким коэффициентом теплового расширения — всего 1/4 от показателя стали и 1/ от показателя алюминиевого сплава. При незначительных колебаниях температуры его деформация минимальна, что предотвращает смещение наложения при литографии и рассогласование рисунка,…
