¿Cuáles son las dificultades de procesamiento de las bases de granito para equipos semiconductores?
La microcalidad superficial de las bases de granito de los equipos semiconductores, caracterizada por una rugosidad a escala nanométrica, cero microdefectos, limpieza ultraelevada, propiedades antimagnéticas y libres de contaminación, y micromorfología uniforme, determina directamente el rendimiento de las obleas y la estabilidad de los equipos a largo plazo. I. Rugosidad superficial (Indicador del núcleo)Superficies de trabajo (Puntos de referencia / Guías / Superficies de vacío): Ra ≤ 0,01-0,05 μm (10-50 nm); Máquinas litográficas de gama alta / plataformas de inspección....
