Normas aplicables: GB/T 20428, ISO 8512-2, DIN 876, ISO 230-1; Condiciones ambientales de ensayo: 20 ℃ ± 1 ℃, HR 40% ~ 60%, grado de vibración VC-E, entorno limpio y libre de polvo. Parte 1: Precisión geométrica de la base de granito (superficie de referencia) Grado de precisión Tolerancia de planitud (μm por metro) Rugosidad superficial Ra Perpendicularidad de las superficies adyacentes Grado de aplicación típico 000 (ultraprecisión) ≤1,0 ≤0,05 μm ≤1,5 μm/m Semiconductores, litografía, platina de inspección nanométrica Grado 00 (alta precisión) ≤2,0 ≤0,10 μm ≤3,0 μm/m Base de MMC, equipos de inspección óptica Grado 0 (precisión industrial) ≤4,0 ≤0,20 μm ≤6,0 μm/m Mecanizado de precisión e inspección por visión Grado 1 (industrial general) ≤8,0 ≤0,40 μm ≤12 μm/m Bancos de formación, accesorios de automatización comunes Fórmula de cálculo de la planitud: Tolerancia = Coeficiente × √(L × W); Coeficiente: 000 = 0,003, 00 = 0,006, 0 = 0,012, 1 = 0,024 (Unidad: μm) Requisitos adicionales sobre el material de la base y el mecanizado 1. Material: granito negro de Jinan; coeficiente de dilatación lineal ≤4,6×10⁻⁶/℃, absorción de agua <0,131 TP3T, dureza Shore HS ≥70. 2. Rectitud de montaje de la guía: grado 000 ≤0,8 μm/m; Grado 00 ≤ 1,6 μm/m. 3. Nivel general tras el ajuste de los pies niveladores: ≤ 2 μm/1000 mm. 4. Tolerancia de posición de los orificios roscados: 000 ≤ ±0,02 mm; 00 ≤ ±0,05 mm; paralelismo del avellanado ≤2 μm/100 mm. Parte 2: Precisión de movimiento del cojinete de aire (película de aire y sistema de accionamiento) 1. Precisión de posicionamiento (rango de recorrido completo) – Grado nano (base 000): ±0,1~±0,3 μm; – Grado submicrométrico (base 00): ±0,3~±1,0 μm; – Grado micrométrico (base 0/1): ±1,0~±3,0 μm. 2. Precisión de posicionamiento repetible (valor estadístico 3σ) – Ultraprecisión: ≤±0,05~±0,1 μm- Alta precisión: ≤±0,2 μm- Industrial general: ≤±0,5~±1,0 μm 3. Rectitud en un solo eje a lo largo de toda la carrera – Grado 000: ≤0,5 μm/1000 mm – Grado 00: ≤1,2 μm/1000 mm – Grado 0: ≤3,0 μm/1000 mm 4. Parámetros del núcleo de la película de aire: Espesor estándar de la película de aire: 10~15 μm; Rigidez de la película de aire ≥120 N/μm; Ausencia de martilleo de aire y de fenómenos de arrastre; Fricción mecánica por contacto nula. 5. Ortogonalidad X/Y (plataforma multieje): Grado 000 ≤1 arcsec; Grado 00 ≤ 3 segundos de arco; Grado 0 ≤ 8 segundos de arco. Parte 3: Tabla de correspondencia de grados para aplicaciones 1. Semiconductores/litografía: Grado 000 (base) + posición ±0,2 μm, repetibilidad ≤ 0,1 μm. 2. Máquinas de medición por coordenadas (CMM)/Visión de alta gama: Grado 00 Base + Posición ±0,5 μm, repetibilidad ≤0,2 μm. 3. Inspección de mecanizado de precisión: Grado 0 Base + Posición ±1,5 μm, repetibilidad ≤0,6 μm. 4. Equipos de enseñanza y fijación estándar: Grado 1 Base + Posición ±3,0 μm Parte 4: Condiciones de aceptación e inspección 1. Estabilización previa a la prueba: Colocar la plataforma en una sala a temperatura constante durante ≥72 h para liberar la tensión interna de la piedra antes de la detección. 2. Instrumentos de inspección: interferómetro láser, rugosímetro de luz blanca, nivel electrónico de precisión, calibrador de perpendicularidad. 3. Normas de cumplimiento: GB/T 20428, ISO 8512-2, DIN 876, ISO 230-1
