Plataforma base (s\u00f3lida \/ alveolar)
S\u00f3lido: Espesor de 150 a 300 mm, adecuado para bases pesadas de m\u00e1quinas de litograf\u00eda y grabado.
Estructura alveolar: Ligera (reducci\u00f3n de peso 40%), adecuada para plataformas de movimiento de alta velocidad (por ejemplo, plataformas para obleas
Plataforma de movimiento con cojinete de aire \/ motor lineal
Gu\u00eda de cojinetes neum\u00e1ticos: suspensi\u00f3n mediante pel\u00edcula de aire a nivel de micras, fricci\u00f3n nula, sin desgaste, precisi\u00f3n de posicionamiento \u00b150 nm<\/strong>.
Lineal: Accionamiento directo, velocidad de hasta 2 m\/s, repetibilidad \u00b11 \u03bcm<\/strong>.
Base de aislamiento antivibratorio (obligatoria)
Pasivo: Caucho natural \/ aire, que a\u00edsla las vibraciones de baja frecuencia (por ejemplo, del suelo o de los ventiladores).
Activo: Aislamiento de vibraciones electromagn\u00e9tico\/piezoel\u00e9ctrico, cancelaci\u00f3n en tiempo real de microvibraciones de entre 1 y 1.000, est\u00e1ndar en m\u00e1quinas de litograf\u00eda.
Interfaces y protecci\u00f3n
Roscas de precisi\u00f3n \/ orificios para pasadores de posicionamiento (\u00b11 \u03bcm), adaptados para la instalaci\u00f3n de equipos.
Recubrimiento antiest\u00e1tico con acabado pulido, libre de polvo y resistente a la corrosi\u00f3n qu\u00edmica (fotoresina, \u00e1cidos y bases).<\/p>\n\n\n\n
III. Escenarios de aplicaci\u00f3n principales (202 m\u00e1s habituales) IV. Indicadores clave para la calidad de semiconductores (normas de aceptaci\u00f3n) V. y requisitos de producci\u00f3n VI. Aspectos clave de la selecci\u00f3n Plataforma de m\u00e1rmol especializada para semiconductores (caracter\u00edsticas principales: alta estabilidad, propiedades antiest\u00e1ticas y precisi\u00f3n nanom\u00e9trica)Las plataformas de m\u00e1rmol para semiconductores (principalmente granito natural \/ Jinan Green) sirven como bases principales para m\u00e1quinas de litograf\u00eda, inspecci\u00f3n de obleas, uni\u00f3n de chips \/ dosificaci\u00f3n y grabado \/ deposici\u00f3n, y son responsables de \u201cgarantizar\u201d la precisi\u00f3n y la estabilidad en procesos a escala nanom\u00e9trica. I. Materiales principales (calidad para semiconductores) Material: Jinan Green\u2026<\/p>","protected":false},"author":1,"featured_media":2856,"comment_status":"open","ping_status":"open","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_kad_blocks_custom_css":"","_kad_blocks_head_custom_js":"","_kad_blocks_body_custom_js":"","_kad_blocks_footer_custom_js":"","_kadence_starter_templates_imported_post":false,"_kad_post_transparent":"","_kad_post_title":"","_kad_post_layout":"","_kad_post_sidebar_id":"","_kad_post_content_style":"","_kad_post_vertical_padding":"","_kad_post_feature":"","_kad_post_feature_position":"","_kad_post_header":false,"_kad_post_footer":false,"_kad_post_classname":"","footnotes":""},"categories":[35],"tags":[],"class_list":["post-2855","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-news"],"taxonomy_info":{"category":[{"value":35,"label":"NEWS"}]},"featured_image_src_large":["https:\/\/jtlcnc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/06\/20260602-084707.png",800,400,false],"author_info":{"display_name":"jinxing6611@gmail.com","author_link":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/author\/jtlcnc\/"},"comment_info":0,"category_info":[{"term_id":35,"name":"NEWS","slug":"news","term_group":0,"term_taxonomy_id":35,"taxonomy":"category","description":"","parent":0,"count":425,"filter":"raw","cat_ID":35,"category_count":425,"category_description":"","cat_name":"NEWS","category_nicename":"news","category_parent":0}],"tag_info":false,"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/2855","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/users\/1"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2855"}],"version-history":[{"count":1,"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/2855\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":2857,"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/2855\/revisions\/2857"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2856"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2855"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=2855"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/jtlcnc.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=2855"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}
M\u00e1quinas de litograf\u00eda: Base de la plataforma de la m\u00e1scara\/plataforma de la pieza de trabajo, posicionamiento a nivel nanom\u00e9trico, deformaci\u00f3n t\u00e9rmica < 0,1 \u03bcm\/h.
Inspecci\u00f3n de obleas: inspecci\u00f3n de defectos superficiales, espesor y planitud; protecci\u00f3n antiest\u00e1tica; sin ara\u00f1azos; precisi\u00f3n \u2264 0,5 \u03bcm<\/strong>.
Uni\u00f3n de chips \/ Dosificaci\u00f3n: micromanipulaci\u00f3n, posicionamiento de \u00b11 \u03bcm, uni\u00f3n de chips y dosificaci\u00f3n estables, mejora del rendimiento del 3%. .
Grabado \/ Deposici\u00f3n: Base del equipo, baja expansi\u00f3n t\u00e9rmica, lo que garantiza la estabilidad del ancho de l\u00ednea a nivel nanom\u00e9trico.
M\u00e1quina de medici\u00f3n por coordenadas (CMM): plataforma de referencia, error de medici\u00f3n continua durante 24 horas \u2264 1,9 \u03bcm L\/30<\/strong>.<\/p>\n\n\n\n
Cuadro
Art\u00edculo: Grado para semiconductores (Grado 000) Grado industrial general (Grado )
Planitud \u2264 1 \u03bcm\/m \u2264 10 \u03bcm\/m
Perpendicularidad \u2264 2 \u03bcm\/m \u2264 20 m\/m
Rugosidad superficial Ra \u2264 0,05 \u03bcm Ra \u2264 0,8 \u03bcm
Valor antiest\u00e1tico: 10\u2076\u20130\u00b9\u00b9 \u03a9. Sin requisitos.
Deformaci\u00f3n t\u00e9rmica (24 h) \u2264 0,5 \u03bcm\/m \u2264 5 \u03bcm\/m<\/p>\n\n\n\n
Taller a temperatura constante: 22 \u00b1 0,5 \u2103, humedad 40%\u201360%, libre de polvo, clase 1000 (7).
Equipos de procesamiento: grandes rectificadoras de precisi\u00f3n CNC, procesamiento a nivel de micras, control de la temperatura en todo el proceso.
Inspecci\u00f3n: interfer\u00f3metro l\u00e1ser, superficie plana \u00f3ptica, medidor de rugosidad, trazabilidad completa de la inspecci\u00f3n.<\/p>\n\n\n\n
Material: Dar prioridad al \u00abJinan Blue\u00bb (mayor estabilidad); evitar el m\u00e1rmol de colores claros (alto contenido en impurezas, deformaci\u00f3n significativa).
Para los procesos iniciales de Precision Semiconductor (litograf\u00eda\/grabado), se selecciona el grado 000; para el encapsulado y las pruebas, se selecciona el grado 00.
Estructura: Para equipos de uso intensivo, se utiliza un material s\u00f3lido y grueso; para movimientos a alta velocidad, se utiliza un sistema de suspensi\u00f3n neum\u00e1tica tipo panal.
Aislamiento antivibratorio: Las m\u00e1quinas de litograf\u00eda y los equipos de ensayo de alta gama deben estar equipados con un sistema de aislamiento antivibratorio activo; los equipos generales utilizan aislamiento pasivo.<\/p>\n\n\n\n![\"\"](\"https:\/\/jtlcnc.com\/wp-content\/uploads\/2026\/06\/20260602-084707.png\")
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